Đặc điểm của huyết tương
Nhiệt độ cao của plasma có thể cung cấp môi trường làm việc entanpy cao, tạo ra các vật liệu không thể có được bằng các phương pháp thông thường và có lợi thế về khí quyển, thiết bị tương đối đơn giản và dòng chảy quá trình rút ngắn đáng kể, vì vậy công nghệ plasma đã phát triển rất nhiều. Năm 1879, W. Crooks đã chỉ ra rằng khí ion hóa trong ống phóng điện là trạng thái thứ tư của vật chất khác với khí, lỏng và rắn. Năm 1928, I. Langmuir đặt tên cho nó là plasma. Các plasma phổ biến nhất là các chất phát quang như hồ quang, đèn neon và đèn huỳnh quang, và sét và cực quang. Với sự phát triển của khoa học và công nghệ, con người đã có thể tạo ra plasma một cách nhân tạo bằng nhiều phương pháp, từ đó hình thành một công nghệ plasma được sử dụng rộng rãi. Nói chung, các plasma có nhiệt độ khoảng 108K được gọi là các plasma nhiệt độ cao và chỉ được sử dụng trong các thí nghiệm nhiệt hạch hạt nhân có kiểm soát; các plasma có giá trị ứng dụng công nghiệp là những nhiệt độ có nhiệt độ từ 2 × 103 5 × 104K và có thể tồn tại trong vài phút. Plasma nhiệt độ thấp trong vài phút hoặc thậm chí hàng chục giờ chủ yếu thu được bằng phương pháp xả khí và phương pháp đốt. Xả khí được chia thành xả hồ quang, xả cảm ứng tần số cao và xả áp suất thấp. Plasma được sản xuất bởi hai loại trước đây được gọi là plasma nhiệt, chủ yếu được sử dụng làm nguồn nhiệt ở nhiệt độ cao; plasma được tạo ra sau này được gọi là plasma lạnh, có tính chất vật lý đặc biệt có thể được sử dụng trong công nghiệp. Tuy nhiên, do sự phóng điện áp cao trong xử lý khí thải hữu cơ, cần phải ngăn chặn các vụ nổ dễ bắt lửa.